Scuola di Grafica dell’Accademia di Belle Arti di Roma
workshop: incisione no toxic, i fotopolimeri
9/10/11 dicembre 2014
a cura di Tania Campisi
Tra i
materiali nuovi per l’incisione spiccano i fotopolimeri, polimeri dotati di proprietà fotosensibili.
Si tratta di materiali di origine
industriale, il cui adattamento per l’uso artistico è avvenuto nell'ultimo quarto di secolo, grazie
alla ricerca, soprattutto americana.
Negli
anni ’90 alcuni artisti americani hanno sviluppato e diffuso le possibilità di realizzare matrici calcografiche con lastre e film di fotopolimero. Mark Zaffron, Keith Howard e Dan Welden, sono tra i protagonisti di queste nuove proposte. La grande novità è che questi materiali si usano con una semplice attrezzatura e si sviluppano in acqua senza
ricorrere a nessun agente tossico o inquinante. Qualsiasi laboratorio di tecniche dell'incisione tradizionale può essere adattato all'uso di questi materiali, anche senza costose attrezzature supplementari, usando solo l'acqua e la luce del sole.
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Incontro finale del workshop davanti all'Ara Pacis. |
L'incontro tra docenti e studenti, durante il workshop di Roma, è stata un'occasione per sperimentare questi materiali in due tipologie: lastre e film fotopolimero. Gli studenti hanno potuto così progettare lavori calcografici effettuando comparazioni ed ipotizzando necessità e priorità di utilizzo, fino a mettere a punto le tecnologie già esistenti nei laboratori, ma riuscendo anche a farne a meno, come con l'esperienza dell'uso delle solarplates direttamente alla luce del sole.
Un'esperienza formativa carica di nuovi impulsi anche per l'attività di ricerca, un progetto di collaborazione tra le Accademie di Belle Arti di Roma e di Palermo, promosso dai professori delle rispettive Scuole di
Grafica, Tania Campisi e Francesca Genna, coadiuvate dai professori Ferdinando Fedele (cattedra di Grafica d’Arte, Tecniche
dell’Incisione), Roberto Piloni (cattedra di Tecniche calcografiche
sperimentali) e Marilena Sutera (cattedra
di serigrafia).
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